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Unterschiede zwischen den Gebrauchsmustersystemen in Deutschland und in China
Chinesischer Patentanwalt
Peter Zhang
Office@lindapatent.com
Chinas Patentsystem ist größtenteils aus Deutschland entlehnt, daher verfügt China auch über ein Gebrauchsmustersystem. Weil das deutsche Gebrauchsmustersystem sehr flexibel gestaltet ist, gehen viele europäische Anmelder davon aus, dass das Gleiche auch für das Chinas Gebrauchsmustersystem gilt. Es gibt jedoch viele Unterschiede zwischen den beiden. Hier bietet sich einen kurzen Überblick, mit welchem die europäischen Anmelder das chinesische Gebrauchsmustersystem besser in Gebrauch nehmen können.
1. Schutzgegenstand
Es ist bekannt, dass das Gebrauchsmustersystem in Deutschland neben mechanischem Aufbau und dessen Verbindungen auch weitere Gegenstände wie z.B. chemische Substanzen, Lebensmittel, Arzneimittel sowie Erfindungen in Bezug auf eine zweite medizinische Indikation schützen kann. Jedoch können in China nur die Gegenstände wie die Form, der Aufbau oder deren Kombinationen vom chinesischen Gebrauchsmustergesetz geschützt werden. Daher können chemische Substanzen, Lebensmittel, Arzneimittel sowie Erfindungen in Bezug auf eine zweite medizinische Indikation nicht als ein Gebrauchsmuster, sondern lediglich als ein Erfindungspatent, geschützt werden.
2. Prüfungsdauer
Das Gebrauchsmuster wird in Deutschland durchschnittlich innerhalb von zwei oder drei Monaten erteilt. Je nach deutschen Vorschriften kann die Veröffentlichung eines Gebrauchsmusters um bis zu 15 Monaten ab dem Anmeldungstag verschoben werden. In China wurden im Jahre 2019 besonders viele Gebrauchsmuster angemeldet, welches einen gewissen Rückstand verursachte. Zu diesem Zeitpunkt dauerten die Prüfungen im Durchschnitt 7 bis 14 Monate und durfte nicht verschoben werden. Nach den Angaben von CNIPA wird die Prüfungsdauer von Gebrauchsmuster in diesem Jahr auf 6,4 Monate (vom Anmeldungstag bis zur Erteilung oder bis zum Prüfbescheid) reduziert. CNIPA prüft, ob das Gebrauchsmuster offensichtlich nicht neu ist. Wir glauben, dass dies der Grund ist, warum die Prüfungsdauer länger ist als in Deutschland.
3. Doppelpatentierung
Die Doppelpatentierung stellt in Deutschland keine Frage dar. Für die gleiche Erfindung kann der Anmelder gleichzeitig eine Erfindung und ein Gebrauchsmuster mit dem gleichen Schutzumfang haben. Im Gegensatz dazu darf für eine Erfindung aufgrund des Verbots der Doppelpatentierung nur ein Recht an geistigem Eigentum erteilt werden. Vielmehr kann der Anmelder in China für die gleiche Erfindung am gleichen Tag sowohl eine Patentanmeldung als auch eine Gebrauchsmusteranmeldung einreichen. Im Falle, dass das zuerst erteilte Gebrauchsmuster nicht abgelaufen ist und der Anmelder erklärt, auf das gültige Gebrauchsmusterrecht zu verzichten, kann das Patent erteilt werden.
4. Anforderung an Neuheit
Die Anforderung an Neuheit für das Gebrauchsmusteranmeldung in Deutschland ist niedriger als die für das Patentanmeldung, weil es in Deutschland der Standard der relativen Neuheit für das Gebrauchsmuster gilt, welches bedeutet, dass öffentlich verwendete Nachweise außerhalb Deutschlands die Neuheit des deutschen Gebrauchsmusters nicht vorwegnehmen können. Dagegen wird in China der Standard der absoluten Neuheit verwendet wird, und öffentlich verwendeten Nachweise aus der ganzen Welt können für das chinesische Gebrauchsmuster neuheitsschädlich sein.
5. Neuheitsschonfrist
Für das deutsche Gebrauchsmuster können der Anmelder die Neuheitsschonfrist in Anspruch nehmen, solange es von dem Anmelder selbst veröffentlicht wird und das Veröffentlichungsdatum nicht länger als sechs Monate nach dem Anmeldungsdatum dauert. In China gibt es jedoch keine solche Regel, das heißt, dass der vom Anmelder selbst veröffentliche Inhalt auch für das später angemeldete Gebrauchsmuster neuheitsschädlich vorweggenommen sein.
6. Über konfliktbehaftete Anmeldung
Bei der Beurteilung der konfliktbehafteten Anmeldung für das deutsche Gebrauchsmuster werden nur die Ansprüche in Betracht gezogen, nämlich, dass nur der Inhalt, der in den Ansprüchen der konfliktbehafteten Anmeldung beschrieben sind, die Neuheit des späteren Gebrauchsmusteranmeldung vorwegnehmen kann. Dagegen gelten in China die gleichen Regeln über die konfliktbehaftete Anmeldung für die Erfindung und das Gebrauchsmuster. Der Inhalt der Ansprüche oder der Beschreibung der konfliktbehafteten Anmeldung sind neuheitsschädlich.
7.”branch off“ Abzweigung
In Deutschland besteht die Möglichkeit, aus einer Patentanmeldung eine oder mehrere Gebrauchsmusteranmeldungen abzuzweigen, während ein Teilanmeldungssystem in China besteht nur, wenn die Teilanmeldung die Klassifikation der ursprünglichen Anmeldung nicht ändert. Daher kann man sagen, dass kein Abzweigungssystem in China vorgesehen ist.
8.Über Rechtsausübung
Beim prozessualen Verletzungsprozess in Deutschland darf der Rechtsinhaber des Gebrauchsmusters Änderungen in den Ansprüchen vornehmen, um beispielsweise die Stabilität der Ansprüche des Gebrauchsmusters zu erhöhen. In China ist es während des Verletzungsverfahrens unmöglich, die Ansprüche zu ändern. Die Rechtsausübungen der Erfindung und des Gebrauchsmusters in China sind im Wesentlichen gleich. Bei der Rechtsausübung des Gebrauchsmusters kann das Gericht von dem Antragsteller verlangen, ein Gutachten über den Rechtsschutz des Gebrauchsmusters vorzulegen.
9. Über Nichtigkeit
In Deutschland können sowohl das zuständige Gericht für das Verletzungsverfahren als auch das Deutsche Patent- und Markenamt (DPMA) die Gültigkeit des Gebrauchsmusters bestimmen, während in China nur die Abteilungen für Reexamination und Nichtigkeit des Chinas Amts für geistiges Eigentum (CNIPA) die Gültigkeit des Gebrauchsmusters bestimmen können.
Zusammenfassend sind die oben beschriebenen Unterschiede zwischen den chinesischen und deutschen Gebrauchsmustersystemen, welche hoffentlich für Sie hilfreich sind. Die Erteilungsdauer des Gebrauchsmusters in China ist relativ kurz, und der Schutzumfang des Gebrauchsmusters bei der Rechtsausübung ist im Wesentlichen gleich wie der Schutzumfang der Erfindung. Daher ist das Gebrauchsmuster für Erfindungen von Produkten mit der Innovation in Form, Struktur oder deren Kombination eine gute Wahl, wenn ein Rechtsschutz für das geistige Eigentum zu begehren ist.
